國(guó)產(chǎn)DRAM內(nèi)存芯片和三星的技術(shù)差距大約是5年。

具體來(lái)說(shuō)，三星和SK海力士計(jì)劃在年底前投產(chǎn)第五代10nm級(jí)（1b或者說(shuō)12nm）內(nèi)存芯片，而國(guó)產(chǎn)DRAM代表企業(yè)合肥長(zhǎng)鑫今年的打算是第二代10nm（1y或者說(shuō)16/17nm）。

一般而言，DRAM每一代的演進(jìn)時(shí)間是2年到2年半。按照正常節(jié)奏，國(guó)產(chǎn)內(nèi)存芯片有機(jī)會(huì)進(jìn)一步縮短與三星的技術(shù)差距。然而，目前一個(gè)比較棘手的問(wèn)題是，三星和SK海力士已經(jīng)引入了EUV（極紫外光刻）設(shè)備用于生產(chǎn)更先進(jìn)的DRAM芯片，而國(guó)產(chǎn)企業(yè)暫時(shí)還無(wú)法獲取這一設(shè)備。